我国造不出光刻机,有以下三个原因:因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展,西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此,这一限制将影响中国在光刻机的发展。
而对于光刻机,首先我们国家对于光刻机的技术还是很落后的,就算是国内技术含量最好恶毒光刻机也太能达到22nm,而与我们所研究出来的2nm芯片所要的光刻机根本不在一个档次了。
可以毫不夸张的说,制造一枚高性能的芯片,在难度上并不亚于制造一枚原子弹。芯片的制造和生产需要用到光刻机,可是生产光刻机的国家,世界上只有荷兰能够做到。
我是柏柏说 科技 ,资深半导体 科技 爱好者。本期为大家带来的资讯是:IMEC举办的IEEE会议。延续摩尔定律,2纳米以下芯片的关键原料,决定未来半导体发展方向的国产石墨烯技术。老规矩,开门见山。
硅基芯片的制造就是利用了从上而下的微纳精加工技术,用到的设备就是ASML的光刻机。光刻机就像雕刻的刻刀,把芯片设计图纸上的器件用光刻画到硅晶圆上。
若干年来,依赖无数人才的奋力追赶,中国的芯片设计和制作工艺,发展得并不慢。芯片之难,实则难于芯片制造。
使用中芯国际的N+1代工艺。中芯国际的N+1代工艺可以生产出5nm芯片,并且不使用EUV光刻机。用碳纳米管来代替硅晶管。用碳纳米管来代替硅晶管,可以制造出更小、更快的芯片。用电子束光刻技术。
去年,5nm制程终于进入量产阶段,诸如华为、苹果、小米等手机厂商纷纷下手,赶紧用上麒麟9000、A1骁龙888等5nm旗舰处理器。就在日前,三星也进行了 3nm制程芯片的首秀。
一根头发丝的直径一般是5万纳米,2纳米相当于把头发丝轴向剖25000份。此前,在宣布2纳米芯片研发成功后,IBM宣称,一个指甲大小的2纳米芯片就能容纳多达500亿个晶体管。
我们将在2024年正式实现了纳米芯片的量产,并且通过现实运用的检验。
尽管这款芯片听起来让人振奋,但必须知道的是,IBM的2nm芯片在很大程度上只是概念证明和测试。而建立在2nm节点上的量产芯片可能还有至少数年之遥,IBM预计这种2nm技术芯片将在2024年底投入生产。